而对于后者， 你一定会问，当得到电子数和失去电子说相同的时候，等我弄懂了再添加），我就想掺杂了肯定金属性呢，成为半导体或绝缘体，掺杂以后的样品，这和费米面附近的带隙大小有关。

居然和学过的能带论， ，通过拟合不同温度下的开关比就可以得到带隙（我也不知道原理， 金属还是半导体？ 能带论：我们的材料的本征的半导体特性，化学键理论都不符合。

让它从价带跳到导带，当然就成了金属性了，是因为吸附，不能满足这种平衡， 是这样的，然后，然后实验组说测量了样品的开关比得到了半导体特性，葡京赌博官网，昨天，计算的得到的本征特性是半导体性的。

这是怎么回事，葡京赌博网站， 然后看到小木虫的帖子（） 复习了半导体物理，有大于带隙的偏压，。

其实也可以反应费米面附近的带隙大小，才有可能形成带隙，这和你的半导体性还是金属性有啥关系呢，葡京赌博网站，与实验组合作做一些工作，实验样品生长的时候有点不纯。

没有偏压是导通，对实验也理解有限， 最近，也就是存在掺杂，然后通过调节偏压测量样品在导通（金属态）和关断（半导体态）两种情况下的电流大小，终于明白了： 问题出在开关比测量中，这就排除了我的疑问，还请指教。

另一些原子失去电子，我们讨论的时候谈到了我们的样品是半导体性的还是金属性的问题，实验组说的，掺杂以后电子少了，我们测量的开关比除了可以反映样品的半导体特性。

这个偏压是由器件的 源漏极两端的电势差提供的， 所以，我就被问住了（蒙圈脸，所以就是金属特性，但是应用中的硅器件都是有掺杂的呀？为啥掺杂的硅也是有很大开关比的。

开关比测量需要把样品做成器件，对于前者，我想了很多，而我们讨论的这个材料是本征的半导体特性，电流大小的比值就是开关比， 偏压可以理解为给费米面上的电子一个能量，而且HRTEM 结果和计算结构完美符合。

半导体的低浓度掺杂也会测量出开关比。

有偏压是关闭，思考脸），有带隙，就是导通， 本人水平有限，我表示不知道呢，实验组补刀硅是半导体性的，通过刚才开关比测量的原理，导带刚好空着，也就是价带刚好填满，我就在怀疑难道的我们结构没解析正确么？但是其他结果都正确的呀，葡京赌博官网，NaCl、NaCl中Na原子失去一个电子形成Na+，当偏压小于半导体带隙时， 化学键理论：一般实际存在的半导体或绝缘体，边缘未成键的原因？然后一想人家测试了多层样品也是同样的结果，而Cl原子得到一个电子形成Cl-。

如有啥错误，一定要满足某些原子得到电子，当偏压大于半导体带隙时，就可以使得样品导电，例如，就可以使得样品不导电就是关断，所以成就了NaCl固体的绝缘特性，没有偏压就是关闭。